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  • 手动等离子清洗刻蚀系统

    手动等离子清洗刻蚀系统对于清洁,剥离和表面改性,等离子体是有毒化学物质的有效替代品,并且在表面上没有残留溶剂。

    更新时间:2021-06-02

    厂商性质:经销商

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  • 等离子剥离/抛光系统

    YES-CV200RFS等离子剥离/抛光系统利用低频,下游和电容性等离子工艺。避免使用有毒的化学药品,以进行温和的“除垢”清洁以及强韧的光刻胶,聚酰亚胺和BCB的强力等离子体剥离。通过湿法工艺可获得更高的产量和可重复的结果。

    更新时间:2021-06-02

    厂商性质:经销商

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