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纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器

描述:纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器为电子,光电,MEMS和许多其他应用中的高分辨率,对准,接触和接近光刻提供了高质量,可靠且经济高效的解决方案。

更新时间:2021-06-02
产品型号:
厂商性质:经销商
详情介绍

纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器 Lumina系列为电子,光电,MEMS和许多其他应用中的高分辨率,对准,接触和接近光刻提供了高质量,可靠且经济高效的解决方案。 它具有易于使用的界面,高精度的载物台,高性能的光学元件和较小的占地面积。

Nanonex Lumina-200纳米压印主要特点

高分辨率光刻

高精度对准平台

先进的对准光学

间隙控制

用户友好的PC控制

占地面积小

具有成本效益的设计

背面对齐可选

应用领域:半导体器件 *微机电系统 *光电子学 *高级包装 *电力设备

纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器技术参数

手册X-Y-?

带称重传感器的电动Z

移动范围: X和Y:1英寸

?:10度

Z:0.25英寸

掩膜加载能力

5”口罩标准

其他尺寸可选

基板装载能力

4”标准

其他尺寸可选

对准 模式:接近、柔和、硬

对准光学

分割栏 5倍物镜,1到7倍变焦

2个独立的手动X,Y,Z显微镜移动 精细粗调

通过CCD相机成像

曝光系统

紫外线:汞灯,带有可选的G线或I线过滤器

紫外线灯功率:500瓦

紫外线均匀照射

电动紫外线灯移动

具有Microsoft Windows的基于PC的控制计算机

用户友好的控制软件 PC控制的CCD视频

紫外线灯曝光由电脑控制

占地面积:31英寸乘44英寸(780毫米乘1110毫米)

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